SiO₂ 99% アンダンシファイド・マイクロシリカ SF-99

最大の課題は、不純物がセラミックの高温性能および電気的性能に悪影響を及ぼす点にあります。99％という超高純度の二酸化ケイ素は、鉄、遊離炭素、アルカリ金属（ナトリウム、カリウム）などの微量不純物が極限レベルまで抑制されていることを意味します。これにより、セラミックの高温焼結時に低融点ガラス相が生成されるのを完全に防止し、構造用セラミックの高温曲げ強度を大幅に向上させるとともに、電子セラミック（アルミナ、窒化ケイ素セラミックなど）が極めて優れた絶縁性と低い誘電損失を備えることを保証します。

先進的な樹脂系複合材料において、99％のシリカフュームは最高級の無機ナノ級機能性充填材として、システムの熱膨張係数（CTE）を著しく低減し、熱応力による亀裂を抑制します。同時に、完璧な非晶質の球状構造がマトリックスに優れたレオロジー特性とチクソトロピー性を付与し、充填材の沈降を防ぎ、材料の耐摩耗性と寸法安定性を大幅に向上させます。さらに、システムの電気絶縁性能には全く影響を与えません。

高精度セラミックスであれ特殊複合材料であれ、生産現場（通常はクラス10万、あるいはクラス1万のクリーンルーム）では、粉塵汚染に対して「ゼロトレランス」の姿勢をとっています。未処理の99%シリカフュームは非常に軽量であるため、投入時に粉塵が激しく飛散し、環境を汚染するだけでなく、精密な配合における実際の投入量の誤差を招く恐れがあります。純粋に物理的な「半高密度」処理は、体積を圧縮するだけでなく、無塵化と正確な計量・投入を実現し、ハイエンドな自動化生産ラインの標準装備となっています。

全くありません。半高密度プロセスは純粋に物理的な静電凝集であり、いかなる化学結合剤も一切添加されていません。粉末がセラミックボールミルに入ったり、樹脂と高せん断撹拌や3ロールミルによる粉砕が行われたりすると、これらの微細な凝集物は瞬時に完全に解離し、サブミクロン級の単一粒子へと完璧に復元されます。これにより、システム全体に均一に分散し、その超高比表面積を完全に発揮することができ、「死結塊」や応力集中点が一切発生することはありません。

99%の高純度シリカフュームは、極めて高い表面活性とナノレベルの微細孔充填効果を備えています。素地成形段階において、この製品は生素地の積層密度を大幅に向上させ、内部の気孔率を低減します。高温焼結段階では、その高い活性が固相反応を促進し、焼結温度を適度に低下させることさえ可能であり、これにより製品の焼結収縮率を効果的に制御・大幅に低減し、異形部品や精密薄肉セラミック部品の寸法を絶対的に正確に保つことができます。

特殊材料グレードのお客様向けに、当社は完全密閉型の専用生産ラインおよび集塵システムを導入し、多品目間の交差汚染を徹底的に排除しています。出荷前には、高精度のXRF分光分析装置を用いて微量不純物を測定し、焼失量（LOI）を厳格に検査します。お客様のご要望に応じて検査報告書を発行し、研究開発試験から量産に至るまで、常に安定した品質を保証いたします。